Résumé:
Des films minces d'oxyde de titane (TiOx) ont été préparés en industrie par pulvérisation
magnétron réactive. Les dépôts sont réalisés sur substrat en verre à partir d'une cible en titane à
99,99% de pureté dans une atmosphère de gaz (Ar + O2).
L’objectif étant la caractérisation structurale et optique des couches minces déposées à
différents débits massique de gaz support injecté (O2) ; L’analyse des échantillons a été
effectuée à l’aide de deux techniques de caractérisation :
La diffraction des rayons X (DRX) et la spectrophotométrie Ultraviolet-Visible.
La croissance des films minces TiOx a donné lieu à des films amorphes avec légère
différence en termes de transmission, de réflexion et de largeur de bande interdite (Eg). Pour
un débit de gaz réactif plus important la transmittance du TiOx est relativement plus élevée et
son énergie de gap moins large.
